时隔 21 年，佳能开设新光刻机工厂

来自日经新闻的报道，佳能公司在上月底于栃木县宇都宫市举行了半导体光刻设备工厂的开业仪式，这是佳能 21 年以来开设的首家新光刻机厂。宇都宫工厂建筑面积 67518，总投资额 500 亿日元，投产后能翻倍目前佳能公司的光刻设备产量。与广义中 EUV、ArF 等先进光刻机不同，宇都宫工厂采用的 i 线、KrF 等成熟平台将聚焦成熟制程，来满足现阶段在现今制程外仍十分广泛的需求。